一种硅片提拉装置
授权
摘要
本实用新型涉及硅片清洗技术领域，且公开了一种硅片提拉装置，包括固定平台，所述固定平台底部的左右两侧均固定安装有底脚，所述固定平台顶部的左右两侧均固定安装有侧板。该硅片提拉装置，将硅片放置在提升花篮上，接着控制气缸下推升降台，通过旋转平台使倾斜台以及提升花篮重新浸入水箱中，通过控制电动推杆，使得倾斜台以固定轴为轴心灵活倾斜，接着控制驱动电机，带动旋转平台以及提升花篮转动，从而快速使提升花篮内的硅片清洗干净，同时硅片与硅片间产生的短距离位移使其不易发生粘黏现象，待清洗完毕后，将其左右两侧的烘干机打开，对清洗完毕的硅片快速烘干处理，整个清洗过程十分快速便捷，设备使用起来更加方便实用。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片提拉装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021086580.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-13
授权号 ：
CN212494273U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
江水德
申请人 ：
衢州三盛电子有限公司
申请人地址 ：
浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路9号
代理机构 ：
北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张铁兰
优先权 ：
CN202021086580.8
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B13/00 F26B21/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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