一种高纯硅生产加热制备装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种高纯硅生产加热制备装置,包括反应釜和加热框架,所述反应釜的外壁下方固接有加热框架,所述反应釜的上下两侧安装有密封组件,所述反应釜的内部安装有混合组件,所述加热框架的下方左右两侧前后两端均固接有支撑脚,所述加热框架的下端右侧固接有垫杆。该高纯硅生产加热制备装置,通过料筒、反应釜、第二转轴、不完全齿轮、焦炭和硅石之间的配合,解决了现有原料投放配比不准确导致原料浪费的问题,通过反应釜、第一气管、第二气管、第一气泵、第二气泵、加热框架、导线和电炉之间的配合,使反应釜内部发生化学反应后可启动第一气泵使产生的一氧化碳点燃提供热量,解决了现有技术附带物利用率和环保性能较差的问题。

基本信息
专利标题 :
一种高纯硅生产加热制备装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921020999.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-03
授权号 :
CN210261138U
授权日 :
2020-04-07
发明人 :
余水金汪天培
申请人 :
福建泰达高新材料有限公司
申请人地址 :
福建省三明市将乐县积善工业园区鹏程大道2号
代理机构 :
北京天奇智新知识产权代理有限公司
代理人 :
曾捷
优先权 :
CN201921020999.0
主分类号 :
C01B33/025
IPC分类号 :
C01B33/025  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
C01B33/021
制备
C01B33/023
用二氧化硅或含二氧化硅的物料的还原方法
C01B33/025
使用碳或固体碳质物料,即碳热还原工艺
法律状态
2022-06-14 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C01B 33/025
申请日 : 20190703
授权公告日 : 20200407
终止日期 : 20210703
2020-04-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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