一种反射面位于静区上方的紧缩场天线测量系统
授权
摘要
本申请提供了一种反射面位于静区上方的紧缩场天线测量系统，包括底座、骨架、可调背架、反射面、馈源、馈源转台、被测天线和天线支架，反射面位于紧缩场静区的正上方，所述反射面通过可调背架固定在骨架上，馈源和馈源转台安装在骨架的横梁上，被测天线水平放置并通过天线支架固定在底座上。该系统结构紧凑，占地面积小，被测天线能够水平放置，安装时无需变换被测天线的姿态，减少了被测天线的安装时间和复杂度，易于实现被测天线的自动化流水线测量。
基本信息
专利标题 ：
一种反射面位于静区上方的紧缩场天线测量系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921140382.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-19
授权号 ：
CN210347782U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
李德军陈海波王昕旸
申请人 ：
北京中测国宇科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区知春路23号量子银座708室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921140382.2
主分类号 ：
G01R29/10
IPC分类号 ：
G01R29/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R29/00
不包括在G01R19/00至G01R27/00各组中的电量的测量或指示装置
G01R29/08
电磁场特性的测量
G01R29/10
天线的辐射图
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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