一种用于制备光谱分析样品的设备
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摘要

本实用新型公开了一种用于制备光谱分析样品的设备,包括炉膛结构,及熔样机结构;炉膛结构包括炉膛外壳,其内部为用于放置熔样机结构的真空腔,炉膛外壳的顶部连有炉膛盖板,炉膛外壳的一侧面上设有摇摆轴承座、真空放气口、氩气充气口、摇摆电机座、高频电缆套管和真空抽气口;熔样机结构包括固定支架、摇摆机座、摇摆固定支架和摇摆机构,摇摆机座一端与固定支架相连,另一端架于摇摆固定支架上,与摇摆机构相连,摇摆机座上设有旋转电机,旋转电机的输出轴上连有主动轮,通过主动轮依次啮合两个从动轮,一从动轮上设有高频线圈,另一从动轮上设有坩埚。本实用新型利用高频感应熔融金属材料直接浇铸制备光谱分析样品,能够解决现有技术的缺陷。

基本信息
专利标题 :
一种用于制备光谱分析样品的设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921185803.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-25
授权号 :
CN210487653U
授权日 :
2020-05-08
发明人 :
王辰翁宋国军张士成
申请人 :
上海立润机电设备有限公司
申请人地址 :
上海市崇明区陈家镇前裕公路199号7幢249室(上海裕安经济小区)
代理机构 :
上海集信知识产权代理有限公司
代理人 :
魏学成
优先权 :
CN201921185803.3
主分类号 :
G01N23/223
IPC分类号 :
G01N23/223  G01N23/2202  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2020-05-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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