一种用于测量表面偏聚挥发量的试样架
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摘要

一种用于测量表面偏聚挥发量的试样架。利用感应线圈和热敏元件相结合的方式进行原位加热和温度控制,采用高纯铂金片收集挥发溶质或杂质,利用低温介质通入夹持装置进行冷却从而有效冷却铂金片并冷凝挥发出的溶质或杂质,借助于分析室内的旋转台使铂金片处于测试位置,可直接测得挥发元素的种类、浓度及先后顺序。本实用新型的试样架可实现原位加热和温度准确控制;可直接利用设备自身的液氮冷却系统或通入其他低温介质;采用的铂金片自身物理和化学性质稳定,借助于设备自带的氩离子清洁功能,可实现铂金片的反复利用。本实用新型试样架,可用作精度高、超高真空环境、测量室空间有限的先进仪器设备的测量附件,具有良好的应用前景。

基本信息
专利标题 :
一种用于测量表面偏聚挥发量的试样架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921188732.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-24
授权号 :
CN210487657U
授权日 :
2020-05-08
发明人 :
郑磊孟晔孟方亮汪博
申请人 :
北京科技大学
申请人地址 :
北京市海淀区学院路30号
代理机构 :
北京市广友专利事务所有限责任公司
代理人 :
张仲波
优先权 :
CN201921188732.2
主分类号 :
G01N23/2276
IPC分类号 :
G01N23/2276  G01N23/2204  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/227
测量光电效应,例如,光电子发射显微镜
G01N23/2276
利用俄歇效应,例如俄歇电子能谱
法律状态
2020-05-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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