用于纳米薄膜表面测量的变入射角度光谱椭偏成像装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种用于纳米薄膜表面测量的变入射角度光谱椭偏成像装置,包括单色光发生装置、准直透镜、线性起偏器依次共轴安装在入射旋转臂上,线性检偏器、成像物镜共轴安装在出射旋转臂上;图像传感器安装在出射旋转臂上,和由驱动控制箱,计算机和图像采集卡组成图像处理及系统控制部分;计算机发出指令给电机控制卡,该电机控制卡将此信号传递给电机驱动器后带动驱动器进行旋转,再将器件的运动状态反馈回驱动控制箱中的电机控制卡中,并通过驱动控制箱与电子计算机之间的通讯告知电子计算机当前运动器件的运动状态;图像传感器与监视器和图像采集卡电连接。通过入射角度扫描和波长扫描,同时得到样品视场范围内各点的光谱椭偏参数。

基本信息
专利标题 :
用于纳米薄膜表面测量的变入射角度光谱椭偏成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720103324.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-01-24
授权号 :
CN201000428Y
授权日 :
2008-01-02
发明人 :
靳刚孟永宏
申请人 :
中国科学院力学研究所
申请人地址 :
100080北京市海淀区北四环西路15号
代理机构 :
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 :
高存秀
优先权 :
CN200720103324.3
主分类号 :
G01N21/21
IPC分类号 :
G01N21/21  G01B11/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2012-03-28 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101213309942
IPC(主分类) : G01N 21/21
专利号 : ZL2007201033243
申请日 : 20070124
授权公告日 : 20080102
终止日期 : 20110124
2008-01-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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