改善的椭偏测量超薄膜的方法和装置
专利权的终止
摘要
一种进行超薄膜的椭偏测量的方法，包括导向入射到样品表面上的偏振光束，接收来自所述样品表面的初始反射光束，并一次或多次再次导向所述初始反射光束返回到所述样品表面上，以产生最终的反射光束。通过检偏器在探测器处接收所述最终的反射光束，以确定所述超薄膜的特征。
基本信息
专利标题 ：
改善的椭偏测量超薄膜的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1773250A
申请号 ：
CN200510117558.9
公开（公告）日 ：
2006-05-17
申请日 ：
2005-11-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
C·斯特罗基亚－里韦拉
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
于静
优先权 ：
CN200510117558.9
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2019-10-25 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01N 21/21
申请日 : 20051104
授权公告日 : 20090603
终止日期 : 20181104
申请日 : 20051104
授权公告日 : 20090603
终止日期 : 20181104
2009-06-03 ：
授权
2006-07-12 ：
实质审查的生效
2006-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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