一种提高椭偏仪测量精度的方法
公开
摘要
本发明属于光学测量技术领域，公开了一种提高椭偏仪测量精度的方法，该方法的步骤为：(1)偏振片安装；(2)偏振片准直；(3)窄带滤光片安装及准直；(4)偏振片透光轴方向校准；(5)布儒斯特角测量；(6)偏振态数据测量。与现有技术相比，本发明方法过程简单，改善现有测量模式，可提高椭偏仪测量灵敏度和测量精度，可以适用于现有不同结构类型的椭偏仪的优化。
基本信息
专利标题 ：
一种提高椭偏仪测量精度的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114295555A
申请号 ：
CN202111572176.0
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
顾高菲王雷姜昌录许荣国康登魁陈洁婧贾云峰
申请人 ：
西安应用光学研究所
申请人地址 ：
陕西省西安市雁塔区电子三路西段九号
代理机构 ：
中国兵器工业集团公司专利中心
代理人 ：
刘二格
优先权 ：
CN202111572176.0
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21 G01B11/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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