椭偏仪光谱浮动模型及建立方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种椭偏仪光谱浮动模型及建立方法,所述方法包括:建立量测程式,对晶圆进行一次量测,并收集所述晶圆膜层的量测光谱数据;使用OLSA软件,对所述量测光谱数据进行拟合;通过编辑所述晶圆对应膜层的射散模型,增加一个谐振子,并将所述谐振子的初始值改为0;在所述量测程式输出项里面选择所述谐振子。本发明通过添加一个谐振子建立椭偏仪光谱浮动模型,与现有技术相比,采用该模型能够获得比较精确的量测结果,从而明确不同晶圆的同一膜层之间的差异、以及同一晶圆内不同位置处的同一膜层之间的差异,从而准确反应出膜层制作过程的均匀性。

基本信息
专利标题 :
椭偏仪光谱浮动模型及建立方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114324184A
申请号 :
CN202111658726.0
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈旺薛英武劳开满
申请人 :
广州粤芯半导体技术有限公司
申请人地址 :
广东省广州市黄埔区凤凰五路28号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
钟晶
优先权 :
CN202111658726.0
主分类号 :
G01N21/21
IPC分类号 :
G01N21/21  G06F30/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/21
申请日 : 20211230
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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