旋转器件型穆勒矩阵椭偏仪系统参数的校准方法
授权
摘要
本发明属于精密光学测量仪器系统校准相关技术领域，其公开了一种旋转器件型穆勒矩阵椭偏仪系统参数的校准方法，该方法包括：将旋转器件型穆勒矩阵椭偏仪的成像透镜和物镜分别更换为1/4标准波片和反射镜；多次旋转所述1/4标准波片的方位角，并从旋转器件型穆勒矩阵椭偏仪的探测器处分别获取多个方位角下的光强信息；对光强信息进行傅里叶分析获得光强信息的傅里叶系数；建立光强信息的傅里叶系数与待校准系统参数的关系模型；不断调整关系模型中待校准系统参数的取值，直至关系模型中的傅里叶系数与上述傅里叶系数的误差在预设范围内则此时待校准系统参数对应的取值即为校准值。该方法通过两步校准即可实现对多个校准值的校准，简单方便。
基本信息
专利标题 ：
旋转器件型穆勒矩阵椭偏仪系统参数的校准方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112378860A
申请号 ：
CN202011146847.2
公开（公告）日 ：
2021-02-19
申请日 ：
2020-10-23
授权号 ：
CN112378860B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
陈修国陈超盛胜周军宏刘世元
申请人 ：
华中科技大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 ：
华中科技大学专利中心
代理人 ：
孔娜
优先权 ：
CN202011146847.2
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21 G06F17/14 G06F17/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2021-03-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/21
申请日 : 20201023
申请日 : 20201023
2021-02-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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