一种穆勒矩阵测量装置
授权
摘要
本实用新型提供一种穆勒矩阵测量装置，包括：光源、第一分光器、第二分光器、第一检偏器、接收光路、第二检偏器，光源产生多个不同偏振态的入射偏振光，经第一分光器分成两路入射偏振光；其中一路入射偏振光进入第一检偏器进行实时检偏；另一路入射偏振光经入射光路投射在样品上；接收光路接收样品被照射后所散射的出射光后传输至第二检偏器进行实时检偏；其中，光源包括多个用于分别产生不同偏振态的入射偏振光的发光组件、用于控制多个发光组件开关的控制器以及将多个发光组件发出的入射偏振光投射到第一分光器上的投射组件。本实用新型能够快速连续地转换入射偏振光的偏振态，满足对快速变化的样品进行穆勒矩阵测量。
基本信息
专利标题 ：
一种穆勒矩阵测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122607215.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-28
授权号 ：
CN216622148U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
李泓毅麦浩基杨尚潘刘碧旺孙培韬黄庄钒黄鸿衡吴南寿曾亚光钟俊平韩定安
申请人 ：
佛山科学技术学院;佛山市灵觉科技有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区狮山镇仙溪水库西路佛山科学技术学院
代理机构 ：
广州新诺专利商标事务所有限公司
代理人 ：
梁伟
优先权 ：
CN202122607215.8
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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