一种透射式穆勒矩阵显微成像系统及方法
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摘要

本发明提供一种透射式穆勒矩阵显微成像系统及方法,系统包括照明单元,产生入射光;起偏调制单元,接受采集控制单元的控制,对入射光进行偏振调制从而使入射光具有相对应的偏振态,进而对样品进行照明;检偏调制单元,包括第一DoFP相机和第二DoFP相机用于接受采集控制单元的控制,同步接收穿过样品的出射光并对出射光的偏振态进行检偏形成图像数据;照明单元、起偏调制单元、检偏调制单元沿着入射光的传输方向依次设置且光轴相重合;采集控制单元分别与起偏调制单元、第一和第二DoFP相机相连;数据处理单元,与第一、第二DoFP相机相连,接收图像数据,并处理得到样品的穆勒矩阵阵元图像。保证较高测量准确性,大幅提升成像速度。

基本信息
专利标题 :
一种透射式穆勒矩阵显微成像系统及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112285914A
申请号 :
CN202011075354.4
公开(公告)日 :
2021-01-29
申请日 :
2020-10-09
授权号 :
CN112285914B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
马辉黄彤宇廖然何宏辉孟若愚王晶
申请人 :
清华大学深圳国际研究生院
申请人地址 :
广东省深圳市南山区西丽街道深圳大学城清华校区A栋二楼
代理机构 :
深圳新创友知识产权代理有限公司
代理人 :
孟学英
优先权 :
CN202011075354.4
主分类号 :
G02B21/00
IPC分类号 :
G02B21/00  G02B21/36  G01B9/04  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
2022-04-19 :
授权
2021-02-23 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 21/00
申请日 : 20201009
2021-01-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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