一种穆勒矩阵检测装置的校准方法
授权
摘要
本发明公开了一种穆勒矩阵检测装置的校准方法，包括以下步骤：S1建立入射光分别倾斜射入至穆勒矩阵检测装置的第一波片和第二波片表面时的相位延迟扰动理论模型，以建立光强值与误差项的关系模型；S2用所述穆勒矩阵检测装置测量标准样品的光强值I；S3将步骤S2获得的所述标准样品的光强值I和已知的所述标准样品的穆勒矩阵式Msample代入方程组；S4通过数值校准法求解光强值与误差项的关系模型中的所有误差x1、x2、x3、x4、x5、x6、x7、x8和x9的值；S5根据步骤S4求解得出的所有误差的值，对所述穆勒矩阵检测装置原仪器矩阵F进行校准，重新建构校准仪器矩阵F’。本发明的校准方法具有操作简单，方便可靠，测量速度快，精度高等特点。
基本信息
专利标题 ：
一种穆勒矩阵检测装置的校准方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113218877A
申请号 ：
CN202110564306.X
公开（公告）日 ：
2021-08-06
申请日 ：
2021-05-24
授权号 ：
CN113218877B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
唐志列付瑶陈振华
申请人 ：
华南师范大学
申请人地址 ：
广东省广州市番禺区外环西路378号华南师范大学物理与电信工程学院
代理机构 ：
广州骏思知识产权代理有限公司
代理人 ：
吴静芝
优先权 ：
CN202110564306.X
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21 G06F17/16 G06F30/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2021-08-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/21
申请日 : 20210524
申请日 : 20210524
2021-08-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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