一种椭偏仪的测试台面
授权
摘要
本实用新型公开了一种椭偏仪的测试台面，其用于放置测试样品需要测试的硅片，包括水平台面、凹槽、第一定位组件、第二定位组件、第三定位组件和第四定位组件，所述凹槽为矩形，以所述水平台面的圆心为对称中心，所述凹槽的对称轴分别为轴A和轴B，所述第一定位组件与第二定位组件关于所述轴A对称分布，第三定位组件和第四定位组件关于所述轴A对称分布，所述第二定位组件与第三定位组件关于所述轴B对称分布，所述第一定位组件和第四定位组件关于所述轴B对称分布。本实用新型统一了椭偏仪测试的位置，减少测试的误差，便于产线的管控；固定测试的5个点位，便于获得准确地片内均匀性数据，工程师可以根据测试数据准确地把握工艺改进方向。
基本信息
专利标题 ：
一种椭偏仪的测试台面
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922056575.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-26
授权号 ：
CN211528197U
授权日 ：
2020-09-18
发明人 ：
贡江涛
申请人 ：
中节能太阳能科技（镇江）有限公司
申请人地址 ：
江苏省镇江市新区北山路9号
代理机构 ：
南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
王恒静
优先权 ：
CN201922056575.6
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21 G01N21/01 G01B11/06
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2020-09-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211528197U.PDF
PDF下载
