一种基于椭偏仪的光谱匹配校准方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种基于椭偏仪的光谱匹配校准方法，包括：基于参考检测系统测量标定样件的光学表征参数；获取标定样件在目标检测系统测量下的光强谐波信号，并基于所述光强谐波信号计算相应的测量傅里叶系数；基于目标检测系统的测量傅里叶系数与理论傅里叶系数，对目标检测系统的系统参数进行校正。本发明在不改变仪器物理状态下，通过光谱匹配校准方法让检测系统的参数自适应调整，在保证高精度和稳定性的前提下，实现了目标检测系统和参考检测系统的测量一致性，满足实际半导体工业生产需求。
基本信息
专利标题 ：
一种基于椭偏仪的光谱匹配校准方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114384017A
申请号 ：
CN202111466890.1
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-12-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李伟奇颜凡陈军石雅婷郭春付张传维
申请人 ：
武汉颐光科技有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区金融港四路10号6号楼（自贸区武汉片区）
代理机构 ：
武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
寇俊波
优先权 ：
CN202111466890.1
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/21
申请日 : 20211203
申请日 : 20211203
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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