一种含带宽光谱的光谱处理方法及椭偏测量方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种含带宽光谱的光谱处理方法,包括步骤:获取待测样件的椭偏光谱、反射光谱、入射光源的带宽以及光强分布节点数;基于光强分布节点数和入射光源的带宽对椭偏光谱和反射光谱做插值处理,得到新椭偏光谱和新反射光谱,并进一步得到新椭偏光谱向量;基于光强分布节点数获取光强分布节点的权重集,并根据权重集构造权重矩阵;基于权重矩阵获取权重逆矩阵;基于权重逆矩阵和新椭偏光谱向量获取无带宽椭偏光谱。本发明根据光源的带宽,利用反卷积法从包含带宽因素的实际测量光谱中计算出不含带宽因素的理想测量光谱,用理想测量光谱代替实际测量光谱进行分析,可有效避免物理模型中对带宽进行耗时的积分运算,可极大提高测量光谱分析效率。

基本信息
专利标题 :
一种含带宽光谱的光谱处理方法及椭偏测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114279974A
申请号 :
CN202111511446.7
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-06
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
石雅婷李江辉郭春付龚朋李伟奇张传维
申请人 :
上海精测半导体技术有限公司
申请人地址 :
上海市青浦区徐泾镇双浜路269、299号1幢1、3层
代理机构 :
武汉东喻专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
方可
优先权 :
CN202111511446.7
主分类号 :
G01N21/25
IPC分类号 :
G01N21/25  G01N21/21  G06F17/16  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色;光谱性质,即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/25
申请日 : 20211206
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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