一种应用于真空设备中的加热装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种应用于真空设备中的加热装置，涉及真空设备中加热样品领域。该加热装置包括：加热器、热电偶、有顶隔热辐射套筒、陶瓷隔热底座、不锈钢基座，不锈钢基座位于加热装置最下方，其上为陶瓷隔热底座，加热器位于陶瓷隔热底座之上，加热器包括加热陶瓷芯、加热陶瓷套管、第一电热丝、第二电热丝和陶瓷隔热涂层。该装置具有体积小、加热效率高、升温快、热源封闭隔热效果好、有效控制热电子对扫描电子显微镜电子束的影响、高温图像清晰、不影响扫描电子显微镜其它附件功能的正常使用。
基本信息
专利标题 ：
一种应用于真空设备中的加热装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921381113.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-23
授权号 ：
CN211267102U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
李吉学党理
申请人 ：
杭州源位科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山建设四路4083幢新街科创园C座
代理机构 ：
北京金智普华知识产权代理有限公司
代理人 ：
巴晓艳
优先权 ：
CN201921381113.5
主分类号 ：
H05B3/02
IPC分类号 ：
H05B3/02 H05B3/42 H05B1/02
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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