一种石英晶片去污装置
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及石英晶片技术领域,且公开了一种石英晶片去污装置,解决了目前市场上的石英晶片去污装置,在对石英晶片的去污过程中,操作较为繁琐,给相关人员的工作造成了一定的麻烦,而且,现有的石英晶片去污装置对石英晶片的去污效率较低,影响了企业的生产效益的问题,其包括底座,所述底座的内部开设有第一安装槽,本实用新型,通过设置有固定板、卡槽、弹簧和固定架,使得本石英晶片去污装置在对石英晶片的去污过程中,操作较为简便,方便了相关人员的工作,通过设置的弹簧和固定架,便于工作人员对石英晶片进行固定和取下,通过设置有电机和水箱等,使得本石英晶片去污装置对石英晶片的去污效率较高,提高了企业的生产效益。
基本信息
专利标题 :
一种石英晶片去污装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921500294.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-10
授权号 :
CN210497413U
授权日 :
2020-05-12
发明人 :
梁万丰肖华肖林
申请人 :
万安县凯晶电子科技有限公司
申请人地址 :
江西省吉安市万安县工业园一期(万安东翔塑料包装制品有限公司院内)
代理机构 :
南昌贤达专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
范鑫鑫
优先权 :
CN201921500294.9
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02 B08B13/00 F26B23/04
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-08-20 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B08B 3/02
申请日 : 20190910
授权公告日 : 20200512
终止日期 : 20200910
申请日 : 20190910
授权公告日 : 20200512
终止日期 : 20200910
2020-05-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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