一种石英晶片清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种石英晶片清洗装置,包括装置底箱,所述装置底箱的内部安装有水箱,且水箱的内部固定有过筛板,所述水箱的一侧安装有调节口,且调节口的一端延伸至装置底箱外部,所述装置底箱表面的一侧固定有定位片,且定位片的一侧固定有凸块,所述凸块两侧的定位片表面固定有弹性U夹,且相邻弹性U夹一侧的定位片表面设有PH试纸卡,所述装置底箱表面的两侧皆固定有加固台,所述装置底箱顶端的中心位置处安装与承接盒,且承接盒的内部设有工装盘,并且工装盘的一端延伸至承接盒外部,所述承接盒的顶端以及底端均匀设有漏孔。本实用新型避免造成水环境污染,提高了清洗装置的实用程度,而且扩大了清洗装置的适用范围。
基本信息
专利标题 :
一种石英晶片清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021159132.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-22
授权号 :
CN212494432U
授权日 :
2021-02-09
发明人 :
刘胜男
申请人 :
深圳科鑫泰电子有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区沙井街道沙四高新科技园J栋
代理机构 :
深圳市千纳专利代理有限公司
代理人 :
胡坚
优先权 :
CN202021159132.6
主分类号 :
B08B11/00
IPC分类号 :
B08B11/00 B08B1/04 B08B3/02 B08B13/00 C02F9/04
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B11/00
专门适用于清洁柔韧的或精致的物品的方法或装置
法律状态
2021-02-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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