一种石英晶片生产用清洗装置
授权
摘要
本实用新型涉及石英晶片生产技术领域,公开了一种石英晶片生产用清洗装置,包括晶片清洗槽和石英晶片,还包括液压升降旋转贴合清洗机构,所述晶片清洗槽的内腔设置有石英晶片,所述石英晶片和液压升降旋转贴合清洗机构活动连接,所述液压升降旋转贴合清洗机构设置在晶片清洗槽的内腔和顶部位置,所述液压升降旋转贴合清洗机构包括液压泵、减速电机、输出转轴、安装转板、稳固连接杆、清洗棉安装板、压缩清洗棉、侧边环挡板、放置棉和支撑台,所述液压泵的底端固定安装有减速电机,所述减速电机的底部中心通孔处活动连接有输出转轴。本实用新型可在保障石英晶片之间不会发生碰撞损坏情况下对其外表面的尘土和杂质记性便捷高效清洗去除工作。
基本信息
专利标题 :
一种石英晶片生产用清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022425495.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-28
授权号 :
CN214022286U
授权日 :
2021-08-24
发明人 :
曹永亮
申请人 :
晶智(上海)光学仪器设备有限公司
申请人地址 :
上海市嘉定区外冈镇恒冠路518号
代理机构 :
北京艾皮专利代理有限公司
代理人 :
杨克
优先权 :
CN202022425495.6
主分类号 :
B08B3/04
IPC分类号 :
B08B3/04 B08B1/04 B08B13/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
法律状态
2021-08-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN214022286U.PDF
PDF下载