本实用新型公开了一种石英晶片用表面清洗装置，涉及晶片清洗技术领域。包括外壳和晶片本体，所述外壳的底部固定安装有四个底柱，所述外壳的一侧固定安装有加压水泵，所述加压水泵的一端延伸进水箱的内部，该石英晶片用表面清洗装置，通过设置喷头和清洗箱，加压水泵将水箱内的的水通过进水管进入喷头，喷头喷出的水呈散射状，完成对晶片本体表面的一重清洗，可以去除晶片本体表面的沉浮污渍，清洗箱内设置有电机，通过清洗箱内的结构带动，连接杆带动清洗棉在晶片本体表面进行往返擦拭清洗，完成对晶片本体表面的二重清洗，传统的清洗装置一般只能进行一次清洗过程，本装置在一定程度上保证了晶片本体表面清洗的清洁度。