本发明涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种石英晶片清洗烘干系统，包括清洗装置，用于清洗石英晶片，所述清洗装置包括：壳体；进料口以及出料口，分别设置在所述壳体的两侧上；提篮，用于装载石英晶片，设置在所述壳体内；夹具，用于夹取所述提篮，活动设置在所述壳体内；烘干装置，用于烘干清洗后的石英晶片，所述烘干装置包括：炉体，其上设置有进口和出口，用于对石英晶片进行冷却；传送装置，用于将石英晶片从清洗装置传送至烘干装置中，其两端分别与所述出料口以及所述进口连接。本方案通过传送装置将清洗完毕的石英晶片从清洗装置传送到烘干装置中，避免石英晶片在转运的过程中受到二次污染。