一种石英晶片生产用清洗装置
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摘要

本实用新型提供一种石英晶片生产用清洗装置,涉及石英晶片生产设备技术领域,包括箱体以及第一气缸和第二气缸;箱体通过第一隔板将其内部分隔为干燥腔和清洗腔,干燥腔的内侧壁设有若干喷管,总管的一端闭合,另一端连接热风机的出气口,清洗腔内注有清洗液;第一气缸和第二气缸的顶部与顶棚固定连接,底部均贯穿设有活塞杆,活塞杆的底部侧壁设有第一凹槽,固定杆顶部的卡块与第一凹槽卡合连接,固定杆的底部侧壁设有横板,清洗笼包括顶板和底板,顶板的第一侧壁和第三侧壁均设有凸台,顶板的两端分别通过第一侧板和第二侧板连接底板的两端,顶板和底板之间设有若干第二隔板。本实用新型工作效率高,清洗效果好,操作简单。

基本信息
专利标题 :
一种石英晶片生产用清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921510631.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-11
授权号 :
CN210497421U
授权日 :
2020-05-12
发明人 :
夏良军
申请人 :
菲特晶(南京)电子有限公司
申请人地址 :
江苏省南京市经济技术开发区新港大道80-2号
代理机构 :
南京常青藤知识产权代理有限公司
代理人 :
黄胡生
优先权 :
CN201921510631.2
主分类号 :
B08B3/06
IPC分类号 :
B08B3/06  F26B21/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/06
利用多孔的滚筒,里面放置物品或材料
法律状态
2020-05-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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