一种增加浊度测量下限的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种增加浊度测量下限的装置，包括光源、比色池、透射光检测器和散射光检测器，所述比色池在光源的透射光位置处设有1个透射光检测器，在光源的90°垂直光路上设有2个散射光检测器，且2个散射光检测器对称设置。本实用新型的增加浊度测量下限的装置，在光源的垂直光路上对称设置2个散射光检测器，使有用信号增强了一倍，极大地增加了信噪比，即使在测量低浊度时，也非常地稳定可靠。
基本信息
专利标题 ：
一种增加浊度测量下限的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921538507.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-16
授权号 ：
CN210834662U
授权日 ：
2020-06-23
发明人 ：
易佑春林江
申请人 ：
成都新三可仪器有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市高新区九兴大道6号高发大厦C幢
代理机构 ：
成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩雪
优先权 ：
CN201921538507.7
主分类号 ：
G01N21/49
IPC分类号 ：
G01N21/49 G01N21/59 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/47
散射，即漫反射
G01N21/49
固体或流体中的散射
法律状态
2020-06-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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