本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种真空镀膜用圆弧靶，该圆弧靶，包括辅助阳极，弧源法兰筒，靶材，冷却板装置，磁场装置；所述靶材包括靶材主体及限位环；所述冷却板装置设有冷却板、水嘴及与所述水嘴其相连接的压环和压垫。所述弧源法兰筒通过不少于一个的绝缘隔断装置与所述冷却板装置的圆周相连接，所述限位环旋紧固接与所述压环上，所述磁场装置位于所述冷却板装置下方。圆弧靶离子镀是离子镀膜技术的一种改进方法，本设计通过优化改进整合冷水却板装置，从而达到提高圆弧靶工作稳定，增强靶材散热的效率的作用；该结构简单，安装方便。