本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种圆弧靶及真空镀膜装置，所述圆弧靶包括圆弧靶本体、弧电源、弧靶档板装置，所述圆弧靶本体包括辅助阳极，弧源法兰盘，靶材，冷却装置，可调节磁场装置；所述弧靶档板装置包括旋转气缸、密封导向座、传动轴、弧靶档板。所述靶材与冷却装置相连接，所述可调节磁场装置包括永磁铁和电磁场线圈，共同产生磁场，通过调节电磁线圈电流来调节磁场从而获得更好的稳弧效果；所述圆弧靶周边设置弧靶档板装置，防止靶材污染；通过对传统圆弧靶各个结构组件进行改进、优化、整合，从而达到改善膜层质量，提高弧靶工作稳定性，提高靶材利用率的作用；该结构简单，操作便利，安全可靠。