本实用新型公开了一种LPCVD双层炉管结构，涉及多晶硅制造领域，包括有双层炉管，所述双层炉管包括有石英内管、石英外管、炉门、内管法兰、外管法兰、管内支撑装置、密封圈，石英内管作为工艺管，石英外管作为真空密封管，管内支撑装置包括有支撑块，所述支撑块设置在石英内管与石英外管之间，石英外管通过外管法兰与加热炉腔固定在一起，内管法兰、外管法兰均加工有密封垫和密封圈凹槽，两个法兰衔接处通过密封圈进行密封，炉门前端为实心表面平整圆形构造，尾端采用开孔，尾端通过内管法兰、外管法兰共同固定。本实用新型杜绝了多晶硅在外管内侧沉积导致的外观破损，提升了设备工艺稳定性，提升了产能，减少了设备维护成本。