本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种圆柱磁控溅射靶磁芯装置，包括圆柱靶靶材以及磁芯，所述磁芯包括磁钢座、6条长条形强磁钢以及6个扇形磁钢，其特征在于，所述磁钢座上设置6个垂直平面；所述6个垂直平面的上面安装强磁场均匀的所述长条形磁钢；所述6个长条形强磁钢的排布方式为任意相邻的两条长条形磁钢为异性极性排列N‑S‑N或S‑N‑S；所述磁场座两端横面各安装有3个弱磁的所述扇形磁钢。本实用新型提供一种圆柱磁控溅射靶的磁芯装置，具有提高靶材利用率，提升靶材沉积速率，缩短了镀膜时间，从而提升整个真空镀膜过程的生产效率。