一种新型研磨抛光设备

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摘要

一种新型研磨抛光设备，其特征在于：包括机架、料筒、升降装置、旋转装置、控制箱、上下料装置；所述料筒上面开口，放置在机架上，用于盛放磨料；所述料筒侧面设置把手；所述上下料装置由若干滚筒组成，安装在机架上，置于所述料筒的下方；所述控制箱安装在机架上，位于机架侧面；所述升降装置安装机架上，位于所述料筒的上方；所述旋转装置安装在所述升降装置上。本实用新型的旋转装置设置电机Ⅱ、旋转轴Ⅰ、转轴Ⅱ、旋转盘，电机Ⅱ驱动旋转轴Ⅰ、旋转盘、转轴Ⅱ、工件绕旋转轴Ⅰ的轴心转动的同时，通过齿轮的啮合传动，带动转轴Ⅱ及工件绕转轴Ⅱ的轴心转动，实现了工件在抛光研磨作业过程中自转与公转，工件处理的效果好。

基本信息

专利标题：

一种新型研磨抛光设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921640884.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-29

授权号：

CN210550339U

授权日：

2020-05-19

发明人：

向必忠温海涛

申请人：

厦门铭意真空科技有限公司

申请人地址：

福建省厦门市集美区灌口镇双岭顶寮社47号之二

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921640884.1

主分类号：

B24B31/02

IPC分类号：

B24B31/02 B24B31/12 B24B41/06