一种用于电解铜的高效电镀槽
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于电解铜的高效电镀槽,包括电镀槽和电解装置,电解装置安装在电镀槽上,在顶板下端开设滑槽,利用滑块与滑槽配合带动阳极棒和阴极棒左右移动,搅动槽体内的电解液,使电解液与阳极棒和阴极棒充分接触,加快化学反应速率,快速电解出更多精铜,在槽体内设置阳离子透过膜,使需要的铜离子在阴极棒附近快速聚集,提高铜离子的浓度,方便铜的快速析出,加快生产速率,在槽体内设置电热丝层,提高反应时的环境温度,促进反应的进行,提高工作效率,利用温度传感器和控制面板对电解液的温度进行实时监测,保证保持适当的反应温度,杜绝温度对溶铜反应产生影响;该用于电解铜的高效电镀槽,结构优异,工作效率高,使用便捷。

基本信息
专利标题 :
一种用于电解铜的高效电镀槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921713007.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-10
授权号 :
CN210711814U
授权日 :
2020-06-09
发明人 :
刘君
申请人 :
人民电器集团上海有限公司
申请人地址 :
上海市嘉定区嘉行公路1515号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921713007.2
主分类号 :
C25D21/10
IPC分类号 :
C25D21/10  C25D17/00  C25D21/02  C25D21/12  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/10
电解液的搅拌;挂具的移动
法律状态
2020-06-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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