本实用新型提供了一种半导体研磨抛光机，涉及半导体加工领域，包括机架，工作台，研磨抛光机构，清洗机构以及收集机构，研磨抛光机构包括电机，第一伸缩杆，研磨盘，固定机构以及喷液机构，固定机构包括工作台表面的底座及放置盘，底座的内侧设有第二伸缩杆，第二伸缩杆的一端设有圆弧形夹板，喷液机构包括抛光液箱，第一水泵以及第一输液管，清洗机构包括水箱，第二水泵以及第二输液管，收集机构包括输送管道，集液箱以及废料箱。本实用新型通过第二伸缩杆对放置盘上不同大小的被加工件固定，集液箱和废料箱实现对剩余抛光液和残余废料的收集，提高了研磨抛光机的实用性和工作效率。