中子捕获治疗系统

授权

摘要

本实用新型提供一种中子捕获治疗系统，包括中子产生装置和射束整形体，射束整形体调整中子产生装置产生的中子线的射束品质，中子捕获治疗系统还包括形成容纳中子产生装置和射束整形体的空间的混凝土壁，混凝土壁内设置支撑模块，支撑模块能够支撑射束整形体并用于调整射束整形体的位置，中子捕获治疗系统还包括用于容纳射束整形体和支撑模块的保护框架，保护框架用于射束整形体和支撑模块的运输或安装。本实用新型的中子捕获治疗系统支撑结构模块化，使得射束整形体可局部调整，满足精度要求，提高射束品质及满足靶的装配公差；通过设置保护框架，降低了射束整形体在填装材料或者射束整形体及其支撑模块在运输过程中发生倾覆的风险。

基本信息

专利标题：

中子捕获治疗系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921763620.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-10-21

授权号：

CN211410738U

授权日：

2020-09-04

发明人：

江涛柏松龄陈韦霖

申请人：

中硼（厦门）医疗器械有限公司

申请人地址：

福建省厦门市海沧区翁角西路2036号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921763620.5

主分类号：

A61N5/10

IPC分类号：

A61N5/10