中子捕获治疗系统
授权
摘要

本申请提供一种中子捕获治疗系统,包括用于传输带电粒子射束的真空管、用于产生中子射束的中子产生部以及对中子射束进行整形的射束整形体,所述射束整形体开设有收容部,中子产生部设于真空管的端部,真空管包括第一位置和第二位置,所述中子捕获治疗系统还包括移出装置,所述移出装置包括带动真空管运动的移动部,移动部包括第三位置和第四位置,当移动部位于第三位置时,真空管位于第一位置;当移动部位于第四位置时,真空管位于第二位置,此时中子产生部位于射束整形体外侧。即,通过移出装置的设置拆卸具有中子产生部的真空管,减少工作人员与发生核反应后中子产生部间的直接接触,降低工作人员的辐射安全隐患。

基本信息
专利标题 :
中子捕获治疗系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020341192.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-18
授权号 :
CN213159021U
授权日 :
2021-05-11
发明人 :
贡秋平陈韦霖
申请人 :
中硼(厦门)医疗器械有限公司
申请人地址 :
福建省厦门市海沧区翁角西路2036号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020341192.3
主分类号 :
A61N5/10
IPC分类号 :
A61N5/10  
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学;卫生学
A61N
电疗;磁疗;放射疗;超声波疗
A61N5/00
放射疗
A61N5/10
X射线治疗法,γ射线治疗法;粒子照射疗法
法律状态
2021-05-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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