一种用于紫外和荧光同时原位检测的反应池
授权
摘要
本实用新型属于原位检测技术领域，具体地说是涉及一种用于紫外和荧光同时原位检测的反应池。包括底座的磁力搅拌系统、安装于底座上的原位池主体、以及与原位池主体样品腔相连接的进出料控制系统。依据该原位池的特点，结合紫外光谱仪和荧光光谱仪的检测原理，可构建一套以本原位池为中心的原位荧光检测装置。
基本信息
专利标题 ：
一种用于紫外和荧光同时原位检测的反应池
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921892333.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-05
授权号 ：
CN211347934U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
张延强熊青霞陈艳鹏刘龙张锁江
申请人 ：
中国科学院过程工程研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村北二条1号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN201921892333.4
主分类号 ：
G01N21/64
IPC分类号 ：
G01N21/64 G01N21/33 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光；磷光
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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