用于检测高反镜表面疵病激光散射成像装置的照明系统
授权
摘要
本实用新型涉及用于检测高反镜表面疵病激光散射成像装置的照明系统，其能够从180°角度范围内同时照射被测对象，没有照射角度盲区，能够一次成像发现疵病的位置和形状，有效提高检测效率和精度。本实用新型包括多个在180°范围内形成聚焦光幕的一体式光源，用于接收反射光的多个陷光器以成像器件为中心与一体式光源对称分布。三个一体式光源在180°内均匀排列，两两汇聚光幕光轴之间的夹角为60°。一体式光源包括一字线型激光器以及由两个透镜构成的整形透镜组，固定装夹在长方体套筒内。陷光器整体为长方体，内部为空心圆锥体，其内外黑化处理。成像器件为CCD成像器件或CMOS成像器件，成像器件与支撑纵杆和机械臂构成可移动组件。
基本信息
专利标题 ：
用于检测高反镜表面疵病激光散射成像装置的照明系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921896684.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-06
授权号 ：
CN211292632U
授权日 ：
2020-08-18
发明人 ：
高爱华韦瑶秦文罡侯劲尧刘卫国闫丽荣
申请人 ：
西安工业大学
申请人地址 ：
陕西省西安市未央区学府中路2号
代理机构 ：
西安新思维专利商标事务所有限公司
代理人 ：
黄秦芳
优先权 ：
CN201921896684.2
主分类号 ：
G01N21/95
IPC分类号 ：
G01N21/95 G01N21/88 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2020-08-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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