抗散射成像方法与装置
授权
摘要
本申请提出一种抗散射成像方法与装置，包括以下步骤：获取散斑图；计算散斑图的自相关信息，对自相关信息进行傅里叶变换后取模值获取原始目标傅里叶域幅值信息；对散斑图进行分块处理得到N张子散斑图，并利用N张子散斑图计算双谱得到双谱相位；其中，N为正整数；根据双谱相位计算原始目标傅里叶域相位的初始估计值，并利用高斯牛顿优化方法对初始估计值进行迭代优化得到高精度傅里叶域相位；根据原始目标傅里叶域幅值信息和高精度傅里叶域相位重建原始目标图像。由此，从单张散斑图即可重建原始目标信息，且幅值和相位恢复过程相互独立，相位恢复精度高，抗噪性强。
基本信息
专利标题 ：
抗散射成像方法与装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111795949A
申请号 ：
CN202010534696.1
公开（公告）日 ：
2020-10-20
申请日 ：
2020-06-12
授权号 ：
CN111795949B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
边丽蘅常旭阳张军
申请人 ：
北京理工大学
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村南大街5号
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
石茵汀
优先权 ：
CN202010534696.1
主分类号 ：
G01N21/47
IPC分类号 ：
G01N21/47 G01J9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/47
散射，即漫反射
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-11-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/47
申请日 : 20200612
申请日 : 20200612
2020-10-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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