一种基于散射介质的宽光谱单帧散射成像方法
授权
摘要
本发明公开了一种基于散射介质的宽光谱单帧散射成像方法，包括：搭建透过散射介质的宽光谱成像系统，其中，所述宽光谱成像系统包括沿光轴方向依次设置的宽谱光源、准直透镜、可变光阑、散射介质和探测器；获取所述宽光谱成像系统的宽谱点扩展函数；利用所述宽光谱成像系统获取成像目标的宽谱散斑图像；对所述宽谱点扩展函数和所述宽谱散斑图像进行互相关宽谱重构，获得所述成像目标的重构图像。该宽光谱单帧散射成像方法仅需单帧宽谱散斑结合预先标定的宽谱光源点扩展函数，重构目标精度高、速度快，光路简单。
基本信息
专利标题 ：
一种基于散射介质的宽光谱单帧散射成像方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112161953A
申请号 ：
CN202010868830.1
公开（公告）日 ：
2021-01-01
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
CN112161953B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
邵晓鹏李伟刘杰涛席特立梁文海孙扬帆樊增增高苗
申请人 ：
西安电子科技大学
申请人地址 ：
陕西省西安市雁塔区太白南路2号
代理机构 ：
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘长春
优先权 ：
CN202010868830.1
主分类号 ：
G01N21/49
IPC分类号 ：
G01N21/49 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/47
散射，即漫反射
G01N21/49
固体或流体中的散射
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2021-01-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/49
申请日 : 20200825
申请日 : 20200825
2021-01-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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