基于DMD的单帧曝光快速三维荧光成像系统及方法
授权
摘要
本发明公开了一种基于DMD的单帧曝光快速三维荧光成像系统及方法，系统包括DMD双侧照明模块，用于产生两束不同波长的光并分别从不同的方向入射至DMD，生成互补的条纹光；双色荧光激发模块，用于接收互补的条纹光，激发样品上的双色荧光，生成携带双色荧光的条纹光；双色分画幅成像模块，用于将不同波长的携带双色荧光的条纹光成像至相机靶面的不同位置，形成双色图像；重构模块，用于实现去除离焦信息。本发明通过单次曝光、单次采集即可以实现结构光照明三维层切成像；此外，采用DMD投影，提高投影速度和投影条纹的精度，进而提高了三维成像的速度和精度。
基本信息
专利标题 ：
基于DMD的单帧曝光快速三维荧光成像系统及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111650739A
申请号 ：
CN202010434454.5
公开（公告）日 ：
2020-09-11
申请日 ：
2020-05-21
授权号 ：
CN111650739B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
陈冲李辉金鑫
申请人 ：
中国科学院苏州生物医学工程技术研究所
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区科技城科灵路88号
代理机构 ：
南京理工大学专利中心
代理人 ：
朱炳斐
优先权 ：
CN202010434454.5
主分类号 ：
G02B21/36
IPC分类号 ：
G02B21/36 G02B21/00 G01N21/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
G02B21/36
照相或投影用的布置
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-10-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 21/36
申请日 : 20200521
申请日 : 20200521
2020-09-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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