背散射成像装置
授权
摘要
本公开的实施例提供了一种背散射成像装置(10)，包括：承载部，用于将背散射成像装置(10)的主体设置在支撑平面(2)上；以及射线发射部(11)，设置在承载部上，用于发射射线束流，所述射线发射部(11)被配置为使得射线束流的中心射线朝向支撑平面(2)发射。根据本公开的背散射成像装置，能够有效减少射线危害，降低辐射防护要求，缩小辐射防护区的大小。
基本信息
专利标题 ：
背散射成像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021389267.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-15
授权号 ：
CN212872256U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
陈志强崔锦林东胡斌阮明吴华威张清
申请人 ：
同方威视技术股份有限公司;清华大学
申请人地址 ：
北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
孙纪泉
优先权 ：
CN202021389267.1
主分类号 ：
G01N23/203
IPC分类号 ：
G01N23/203 G01N23/20008
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射，例如，用于测试晶体结构；利用材料辐射的散射，例如测试非晶材料；利用材料辐射的反射
G01N23/203
测量背散射
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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