一种背散射成像装置及背散射检测系统
授权
摘要
本实用新型提供一种背散射成像装置及背散射成像系统,该背散射成像装置的斩波准直器包括沿第一边方向排列的多条斩波狭缝,该斩波狭缝做往复直线运动并与前置狭缝发生交叠形成飞点,相比现有技术中做圆周远动的斩波狭缝,具有较多优点,直线运动的所述斩波狭缝各处的速度相同,因此与所述前置狭缝相交过程中的曝光时间恒定,不会产生曝光强弱的差异,其次对于任何一条斩波狭缝而言,其与前置狭缝形成的角度恒定,因此相交时形成的交叠区域及飞点的形状、大小恒定,无需过多的图像校正,有利于提升最终的图像质量。同时,该背散射成像系统采用多个模块实现对背散射成像装置的智能控制,利于扫描图像的快速查验,提高检测效率及准确率。
基本信息
专利标题 :
一种背散射成像装置及背散射检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122447037.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-12
授权号 :
CN216449466U
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
朱伟平黄翌敏
申请人 :
奕瑞影像科技成都有限公司
申请人地址 :
四川省成都市郫都区现代工业港北片区港通北三路269号2栋2号
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
余明伟
优先权 :
CN202122447037.7
主分类号 :
G01N23/203
IPC分类号 :
G01N23/203 G01N23/20008 G01V5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射,例如,用于测试晶体结构;利用材料辐射的散射,例如测试非晶材料;利用材料辐射的反射
G01N23/203
测量背散射
法律状态
2022-05-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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