一种PECVD设备炉体支撑调节机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种PECVD设备炉体支撑调节机构，包括：底座；一对结构相同的调节机构，其分别固定安置于底座上壁面，且分别位于底座前后两端相互对称；还包括:控制箱，所述控制箱固定安置于一对所述其中一个调节机构上，本实用新型涉及PECVD设备技术领域，通过承载环承载炉体的前后两端，并通过翻折紧固环，通过螺栓和螺母的配合使炉体进行夹紧固定；根据推舟送片机的高度，通过控制箱输入，同时控制两个升降结构运动；使螺旋杆同外套筒受力在轴承内转动，进而使安装板在限位限位卡板内带动承载环上的炉体进行升降；该设计不仅可以有效的承载炉体的重量，且依靠电机的传动力使炉体上下升降移动，便于控制以及调节精度较高。
基本信息
专利标题 ：
一种PECVD设备炉体支撑调节机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921973082.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-15
授权号 ：
CN211394625U
授权日 ：
2020-09-01
发明人 ：
陈金元
申请人 ：
理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司
申请人地址 ：
江苏省泰州市泰兴高新技术产业开发区环溪路北侧
代理机构 ：
苏州国卓知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘静宇
优先权 ：
CN201921973082.2
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-09-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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