一种适用于PECVD设备的炉体调节机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种适用于PECVD设备的炉体调节机构，包括：炉体；与所述炉体接触连接的至少2根的支撑杆；以及设于所述支撑杆的侧端部的调节装置；其中，所述调节装置至少设有2组，所述调节装置可通过所述支撑杆控制所述炉体延X轴方向及Z轴方向往复运动。本实用新型具有通过第一调节组件调节炉体延Z轴方向的位置，通过所述第二调节组件调节炉体延X轴方向的位置，结构简单，操作省力，且两者互不干扰的有益效果。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于PECVD设备的炉体调节机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020951444.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN212864965U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
陈晖王玉明程海良陆尉
申请人 ：
苏州拓升智能装备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇金枫南路1258号B3幢二楼
代理机构 ：
北京远大卓悦知识产权代理有限公司
代理人 ：
祁云珊
优先权 ：
CN202020951444.4
主分类号 ：
C23C16/52
IPC分类号 ：
C23C16/52 C23C16/513
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/52
镀覆工艺的控制或调整
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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