一种兼顾双尺寸靶的小体积剥蚀池
授权
摘要
本实用新型提供了一种兼顾双尺寸靶的小体积剥蚀池，包括外腔体以及样品座，外腔体的下部为侧壁开口结构的样品室，样品座的外形与侧壁开口结构相匹配，且样品座可插接式的连接在样品室内；所述样品座整体结构呈环形，样品座的上表面和下表面与外腔体相接触，且上表面和下表面均嵌入设置有对样品座与腔体之间进行密封的环形橡胶圈，所述样品座的内径对应大靶的直径，样品座的内部设置有活动连接的小靶座，所述小靶座为环形结构，小靶座的外径与大靶直径相同，小靶座的内径与小靶直径相同。本申请提供的小体积剥蚀池结构简单、使用方便、成本低，且能够有效的降低剥蚀池内部的位置效应和记忆效应。
基本信息
专利标题 ：
一种兼顾双尺寸靶的小体积剥蚀池
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921998810.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-19
授权号 ：
CN211122659U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
高伟黄云泽孔嘉康刘铮
申请人 ：
武汉上谱分析科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区北斗路6号武汉国家地球空间信息产业化基地（新区）一期1.1期A11栋2层01室
代理机构 ：
武汉诚儒知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘天钰
优先权 ：
CN201921998810.5
主分类号 ：
G01N27/62
IPC分类号 ：
G01N27/62 G01N21/73 G01N1/44
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N27/62
通过测试气体的电离，例如气溶胶；通过测试放电，例如阴极发射
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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