一种真空压力控制装置
授权
摘要

本实用新型涉及真空设备技术领域,尤其为一种真空压力控制装置,包括真空室和气瓶,所述真空室的右端面固定连接有规管,所述规管的另一端固定连接有控压表,所述控压表的另一端固定连接有软管,所述软管的另一端固定连接有变频器,所述真空室的底端右侧通过软管固定连接有第二截止阀,所述第二截止阀的底端通过软管固定连接有质量流量控制器,所述质量流量控制器的底端通过软管固定连接有气瓶,所述真空室的底端中央位置处通过软管固定连接有第一截止阀,通过设置的定位框,通过调节板和调节轴带动定位板进行转动,便可以让左右两端的固定环进行靠拢,便可以对气瓶的位置进行固定,能够避免在对气瓶使用的过程中,气瓶出现晃动的情况。

基本信息
专利标题 :
一种真空压力控制装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922007756.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-20
授权号 :
CN210488330U
授权日 :
2020-05-08
发明人 :
姜寰
申请人 :
沈阳中科汉达科技有限公司
申请人地址 :
辽宁省沈阳市东陵区白塔镇大羊安村
代理机构 :
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 :
邓凌云
优先权 :
CN201922007756.X
主分类号 :
G05D16/20
IPC分类号 :
G05D16/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D16/00
流体压力的控制
G05D16/20
以使用电装置为特征的
法律状态
2020-05-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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