太赫兹成像系统
授权
摘要
本申请涉及物理光学技术领域，具体而言，涉及一种太赫兹成像系统。太赫兹成像系统包括第一信号发生装置、第二信号发生装置和成像装置。第一信号发生装置用于产生编码激光，并投射至第二信号发生装置。第二信号发生装置用于在编码激光的激发作用下，产生具有空间编码强度分布的初始太赫兹波，并投射至目标样品，以获得目标太赫兹波，并投射至成像装置，目标太赫兹波携带有目标样品在太赫兹波频段的空间信息。成像装置用于根据目标太赫兹波，获得目标样品的样品图像。本申请实施例提供的太赫兹成像系统能够同时保证样品图像具有较高超衍射分辨率和信噪比。
基本信息
专利标题 ：
太赫兹成像系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922242774.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-11
授权号 ：
CN211528196U
授权日 ：
2020-09-18
发明人 ：
朱礼国陈思潮李江杜良辉翟召辉李泽仁
申请人 ：
中国工程物理研究院流体物理研究所
申请人地址 ：
四川省绵阳市游仙区绵山路64号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王立红
优先权 ：
CN201922242774.6
主分类号 ：
G01N21/17
IPC分类号 ：
G01N21/17 G01N21/21 G01N21/3581
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
法律状态
2020-09-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211528196U.PDF
PDF下载
