一种拼接型金属靶材
授权
摘要
本实用新型公开了一种拼接型金属靶材，包括若干金属靶材片，每个所述金属靶材片至少设有一个相同的L型边，两个相邻金属靶材片中的其中一个金属靶材片的L型边正放，另一金属靶材片的L型边倒扣在正放的金属靶材片的L型边上。优点：本实用新型的金属靶材采用L型拼接，与现有技术的拼接相比不存在贯穿的缝隙，而且通过凹槽和凸起的设置，能够将相邻的靶材片牢牢固定在一起，能够防止靶材片偏移或者位移，进一步避免产生缝隙。
基本信息
专利标题 ：
一种拼接型金属靶材
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922398725.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-27
授权号 ：
CN211339672U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
周其刚戴慧敏李宪民
申请人 ：
南京欧美达应用材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市江宁经济技术开发区殷巷铺岗街379号
代理机构 ：
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 ：
董建林
优先权 ：
CN201922398725.1
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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