试样观察装置和试样观察方法
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摘要
试样观察装置(1)包括：用于在XZ面上对试样S照射平面光L2的照射光学系统(3)；以通过平面光L2的照射面R的方式在Y轴方向上扫描试样S的扫描部(4)；具有相对于照射面R倾斜的观察轴P2、使在试样S上产生的观察光L3成像的成像光学系统(5)；用于获取多个与观察光L3的光学图像对应的XZ图像数据(31)的图像获取部(6)；和基于多个XZ图像数据(31)，生成XY图像数据(32)的图像生成部(8)，图像生成部(8)提取关于Y轴方向获取的多个XZ图像数据(31)中的解析区域，至少在Z轴方向上累计解析区域F的亮度值，生成X图像数据(33)，在Y轴方向上组合X图像数据(33)以生成XY图像数据(32)。
基本信息
专利标题 ：
试样观察装置和试样观察方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111902761A
申请号 ：
CN201980021841.1
公开（公告）日 ：
2020-11-06
申请日 ：
2019-01-30
授权号 ：
CN111902761B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
山本谕
申请人 ：
浜松光子学株式会社
申请人地址 ：
日本静冈县
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨琦
优先权 ：
CN201980021841.1
主分类号 ：
G02B21/06
IPC分类号 ：
G02B21/06 G01N21/47 G01N21/64 G02B21/26 G02B21/36
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
G02B21/06
试样的照明装置
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-11-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 21/06
申请日 : 20190130
申请日 : 20190130
2020-11-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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