试样结构测量装置及试样结构测量方法
实质审查的生效
摘要
提供一种试样结构测量装置，其能够不受试样的形状、试样的大小、以及试样与周围的折射率差所左右而准确地测量试样的折射率分布。试样结构测量装置(1)具备：光源(2)；光路分支部(3)，其将来自光源(2)的光分支为通过试样的测量光路(OPm)和参照光路(OPr)；光路合流部(4)，其使测量光路(OPm)的光和参照光路(OPr)的光合流；光检测器(5)，其具有多个像素，检测从光路合流部入射的光，输出入射的光的相位数据；以及处理器(6)，第1区域是存在试样的区域，第2区域是不存在试样的区域，处理器(6)将相位数据分割为第1区域的相位数据和第2区域的相位数据，基于第1区域的相位数据设定为估计试样结构的初始结构，使用透射过估计试样结构的模拟的光和透射过试样的测量光来使估计试样结构最优化。
基本信息
专利标题 ：
试样结构测量装置及试样结构测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114270177A
申请号 ：
CN201980099588.1
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2019-12-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大平真由美
申请人 ：
奥林巴斯株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱丽娟
优先权 ：
CN201980099588.1
主分类号 ：
G01N21/41
IPC分类号 ：
G01N21/41
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率；影响相位的性质，例如光程长度
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/41
申请日 : 20191212
申请日 : 20191212
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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