测试样品的制备方法及测试样品

授权

摘要

本公开实施例公开了一种测试样品的制备方法。所述方法包括：提供包括失效区域的待处理结构；其中，所述待处理结构包括：多级台阶，覆盖所述台阶的介质层、位于所述台阶表面上方且设置于所述介质层中的接触插塞、以及贯穿所述台阶的虚拟沟道柱；沿相交于所述多级台阶所在斜面的预设方向，朝向所述台阶减薄所述待处理结构，以形成预处理样品；其中，所述预处理样品包括所述失效区域；沿所述预设方向，所述预处理样品表面残留的所述接触插塞的厚度大于或等于第一预设厚度；去除所述预处理样品表面残留的所述介质层，以显露所述虚拟沟道柱，形成所述测试样品。

基本信息

专利标题：

测试样品的制备方法及测试样品

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113466277A

申请号：

CN202110711489.3

公开（公告）日：

2021-10-01

申请日：

2021-06-25

授权号：

CN113466277B

授权日：

2022-05-10

发明人：

吴诗嫣夏卫东李漪

申请人：

长江存储科技有限责任公司

申请人地址：

湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司

代理人：

高洁

优先权：

CN202110711489.3

主分类号：

G01N23/227

IPC分类号：

G01N23/227 G01N23/2202 G01N23/04 G01N1/30