供应装置、方法和处理装置
授权
摘要
按照不同的实施方式，一种供应装置(350)可以具有：用于运输各一个蒸发钳锅的两个钳锅载体(304、1304)；支架，该支架具有至少一个停放区域(312、314)和移动结构(306)，其中，这样来设置用于在支架上移动两个钳锅载体(304、1304)的移动结构(306)，使得两个钳锅载体(304、1304)可以同时布置在一个停放区域(312、314)中的停放位置中并且能交替地进入真空腔室(802)内的运行位置中；冷却流体供应机构(602)，该冷却流体供应机构设置用于，当从停放位置移动进入运行位置时，同时用冷却流体供应两个钳锅载体(304、1304)。
基本信息
专利标题 ：
供应装置、方法和处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111621749A
申请号 ：
CN202010112397.9
公开（公告）日 ：
2020-09-04
申请日 ：
2020-02-24
授权号 ：
CN111621749B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
乌维·魏纳安德烈亚斯·古德拉特安德烈亚斯·穆勒米夏埃尔·霍夫曼克里斯托夫·舒斯特
申请人 ：
冯·阿登纳资产股份有限公司
申请人地址 ：
德国德累斯顿
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
王小衡
优先权 ：
CN202010112397.9
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-09-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/30
申请日 : 20200224
申请日 : 20200224
2020-09-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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